for the reason chemical vapor depos

for the reason chemical vapor deposition (CVD) processes which
generally lead
to the formation
of hard and thermodynamically stable al2o3
are not suitable
for the coating of e.g.
high speed steel tools.

Hasil (Bahasa Indonesia) 1:

untuk alasan uap kimia pengendapan (CVD) proses yang umumnya menyebabkanpembentukan dari al2o3 keras dan thermodynamically stabil ini tidak cocok untuk lapisan misalnya kecepatan tinggi baja alat.

Hasil (Bahasa Indonesia) 2:

untuk deposisi uap kimia alasan (CVD) proses yang
umumnya mengarah
pada pembentukan
Al2O3 keras dan stabil secara termodinamika
tidak cocok
untuk melapisi misalnya
alat baja kecepatan tinggi.